Светочувствительные полимерные материалы

СУХИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ

Перспективной для использования в производстве ИС является «сухая микролитография», при которой не используются жидкие реактивы. Она должна способствовать повышению качества и вы­хода приборов, упрощению технологии и повышению ее уровня. Сухая микролитография заключается в сухом нанесении резиста (например, сублимацией или путем синтеза полимерной пленки из мономеров на подложке), сухом проявлении (например, экспози­ционном, термическом, плазменном), сухом травлении […]

Негативные фоторезисты

Наряду с позитивными резистами для глубокого УФ-света ре­комендуют применять и негативные резисты. Фотолиз в области 254 нм 2,6-бис (л-азидобензилиден)-4-метилциклогексанона (диа­зида I) и композиций на его основе позволяет генерировать ди — нитрены и отверждать полимеры. Поэтому на основе полиметил — изопропенилкетона и диазида I создан хороший негативный резист для коротковолнового УФ-света: проявление осуществляют плаз­мой CF4—02 (сухой […]

Позитивные фоторезисты

ПММА и его простые аналоги обладают полосой поглощения ниже 190 нм и полосой при 215 нм (rt->-ji* группы СО) с амаКс = = 0,27 -4- 0,47 мкм-1, благодаря чему УФ-свет в этой области глу­боко проникает в микронный слой ПММА; с полосой при 215 нм совпадает и максимум спектральной чувствительности слоя ПММА [6]. При контактной печати […]

ФОТОРЕЗИСТЫ ДЛЯ КОРОТКОВОЛНОВОГО УФ-СВЕТА

Фотолитография в области глубокого (коротковолнового)’ УФ-света рассматривается в микроэлектронике как техника бли­жайшего будущего. Впервые этот метод был предложен в 1975 г. Линном, который использовал в качестве позитивного резиста ПМ. М.А [1]. Теперь круг таких материалов, так называемых рези­стов WR или «белых» резистов дополнен резистами для среднего УФ-света (270—320 нм) (например, позитивный резист WX-159 [2]; негативный […]

ДРУГИЕ ЦИКЛОДИМЕРИЗУЮЩИЕСЯ ПОЛИМЕРНЫЕ СИСТЕМЫ

По типу фотохимической реакции поливинилциннамалиденаце — тат аналогичен полнвинилциннамату, однако его хромофорная группировка значительно более реакционноспособна, если судить по скорости [2 + 2] — циклодимеризации. Фотохимические свойства циннамалиденацетатной группы исследовались на примерах таких модельных соединений, как 1,4-бутандиолциниамалиденацетат(1) и циннамалиденуксусная кислота (II) [27]. При облучении I в растворе и пленке образуются циклобутановые кольца [28]. Кван­товый выход, […]

СОСТАВЫ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛЦИННАМАТОВ

Одним из типов негативных фоторезистов, широко используе­мых в фотолитографической практике с начала 50-х годов, яви­лись составы на основе поливинилциннаматов. Фотолиз а, (3-нена — сыщенных карбонильных соединений приводит к фотодимеризации с образованием циклобутанового кольца. Эта реакция обуслов­лена, как было показано МО-расчетами, увеличением в возбуж­денном состоянии электронной плотности на а,{5-двойной связи [1—3]. Фотоциклодимеризация характеризуется образованием эк — […]

ВОДОРАСТВОРИМЫЕ АРИЛАЗИДЫ В ФОТОРЕЗИСТАХ

Композиции, содержащие водорастворимые азиды, начали раз­рабатывать еще в 1930-х годах. Достоинства этих составов — ста­бильность свойств, сохранение исходной светочувствительности при хранении в темноте при низкой температуре— выгодно отличало их от тогда наиболее известных водорастворимых светокопировальных составов, содержащих бихроматы. К первым разработанным компо­зициям относятся содержащие 5-азидо-2-гидроксибензойную кисло — ТУ, 4,4/-диазидостильбен-2,2′-дисульфокислоту; в 50-х годах предло­жено использовать сульфопроизводные […]

ОЛЕОФИЛЬНЫЕ АРИЛАЗИДЫ В ФОТОРЕЗИСТАХ

Диазидобензилиденовые производные циклокетонов применя­ются в композициях с полимерными связующими, содержащими ненасыщенные связи в главной цепи. Так, разработана светочув­ствительная композиция [пат. Великобритании 1470059], содержа­щая диазид I (от 0,01 до 20 %), а в качестве полимерного связую­щего— сополимер метилметакрилата и этил-М-акрилоилглицина; композиция может включать триплетные сенсибилизаторы. В ка­честве растворителей применяются ксилол, циклогексанол, ДМФА,дихлорэтан или их смсси. Иногда […]

ФОТОХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА АРИЛАЗИДОВ

Основная наиболее интенсивная полоса в электронных спектрах арилазидов соотносится с л—я*-переходом (lge^4) в исходных углеводородах. Несмотря на то что замещение азидогруппой в арильном ядре изменяет симметрию молекулы, общие черты спек­тров исходных углеводородов сохраняются [5, 6]. В арилазидах на длинноволновом участке полос п—л* имеется низкоингенсив — ное плечо п—я*-перехода, иногда оформляющееся и в слабую полосу, например, […]

НЕГАТИВНЫЕ АЗИДСОДЕРЖАЩИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ

При поглощении света молекулами органических азидов основ­ным химическим процессом является образование нитренов и вы­делив молекулярного азота: ftv RN, -—f RN + N, Эта реакция эффективно протекает как для алифатических, так и для ароматических азидов, квантовые выходы их фоторазложе­ния достигают 0,7—1,0 [1,2]. Высокая реакционная способность фотогенерируемых нитренов обусловливает их взаимодействие с различными химическими свя­зями органических соединений […]