Следует выделить два направления использования плазменного нагрева. Первое связано с использованием нагрева, осуществляемого плазмой тлеющего разряда в вакуумной камере при давлении остаточ­ного воздуха 1,33-13,3 Па [7, 8]. Этот процесс получил распростране­ние для химико-термической обработки инструмента и других мало­габаритных деталей. К недостаткам способа следует отнести наличие вакуумной камеры и ограничение обрабатываемых деталей ее разме­рами. Кроме того, […]

Технологические процессы, в которых материал подвергают воздействию концентрированных потоков энергии в виде электронного луча, лазера, плазмы (сварка, наплавка, резка, упрочнение, напыление), в настоящее время достаточно распространены в промышленности [1, 2, 3, 4, 5]. К достоинствам обработки электронным лучом в вакууме следует отнести высокие значения эффективного КПД нагрева (г)э=0,85) при об­щем КПД технологических электронно-лучевых установок 50%, […]

Поверхностная обработка деталей с использованием нагрева кон­центрированными потоками энергии (электронный луч, лазерное излу­чение, плазменная дуга) является существенным резервом экономии материальных, трудовых и энергетических затрат. Академик Б. Є. Патон отметил: «По плотности энергии плазменный ис­точник находится в промежуточном, но наиболее выгодном положении между электродуговыми и лучевыми (электронно-лучевыми и лазерными) источниками теплоты. Он позволяет получить более высокую […]