ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ

с магнитной стабилизацией

3.2.1. Критерии подобия

Подпись: где ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ Подпись: 0.4

В разд. 3.1 показано, что для дуги, движущейся под действием магнитного поля между параллельными электродами, обобщающая за­висимость для напряженности электрического поля получается в виде

Подпись: тельный диаметр (например, D^ =Подпись: ^ , где D - средний диаметрПереходя к конфигурации с двумя коаксиальными электродами (без протока газа), мы должны ввести в определяющие параметры относи-

D

С£ межэлектродного пространства). Влияние относительного диаметра D

ср

ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ

на напряженность электрического поля в дуге оказывается достаточно сильным, что видно из рис. 3.19, построенного по данным В. Адамса. При переходе к плазмотрону с протоком газа необходимо ввести еще один определяющий параметр, связанный с наличием осевой скорости v^. Этот параметр можно

,0,2d0,6 . .

Подпись: 0,2/ В (оД)

0,4

Р

то получим безразмерный параметр

Подпись: 0,4V

Х . 0.2 D0,6 - 0,2

/ в с„д>

Подпись: £ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ Подпись: (3.9)

Таким образом, для коаксиального плазмотрона можно проводить обобщение в виде

Легко показать, что полученная критериальная зависимость путем комбинации определяющих безразмерных параметров может быть приве­дена к виду

Подпись:ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕПодпись: т I D

Подпись:_£Е

/

Критериальная зависимость (3.10) несколько проще, так как в нее не входят параметры с дробными степенями. Естественно, возможны и другие записи трех определяющих критериев, получаемые путем ком­бинации из записанных. В частности, из двух первых параметров в (3.10) можно получить так называемый энергетический критерий

Gla0h0

—J-------- , часто употребляемый при обобщении характеристик плаз­

мотронов с вихревой стабилизацией [И].

Зависимости (3.9) или (3.10) еще не являются полными системами критериев, описывающими напряжение на дуге в реальных плазмотро­нах. Здесь не учтены многие весьма существенные факторы, а именно: относительное расположение катушки и внутреннего электрода, за­крутка холодного воздуха на входе в плазмотрон, соотношение осевой и радиальной составляющих магнитного поля в районе горения дуги и др. Поэтому очевидно, что нельзя ожидать хорошего обобщения экс­периментальных данных для различных плазмотронов. Однако основное влияние оказывают именно эти параметры.

Комментарии закрыты.