Хімічне осадження з парової (газової) фази є процесом, в якому стійкі тверді продукти реакції утворюються та ростуть на поверхні осно­ви у середовищі, де відбуваються хімічні реакції (дисоціація, віднов­лення і таке інше) - CVD-процеси.

Вихідними продуктами є газоподібні галогеніди, карбоніли чи мета­лоорганічні сполуки, при розкладанні чи взаємодії котрих з іншими газо­подібними складовими сумішей (воднем, аміаком, вуглеводнями, оксидом вуглецю та ін.) можуть створюватися й осаджуватися на оброб­люваній поверхні потрібні матеріали.

Структура газофазних покриттів може бути трьох типів, які є на­слідком отримання покриттів при певному температурному режимі (низько-, середньо - і високотемпературному). Інтервал кожного з режи­мів залежить від природи осаджених матеріалів і в більшості випадків відповідає приблизно 0,1; 0,2; 0,3 температури їх плавлення (рис. 1.6).

Поверхня покриттів, отриманих у низькотемпературній області, ціл­ком складається з крупних сфероїдів. Чим вище швидкість подачі пари металомісткої сполуки, тим при більш низькій температурі утворюються крупні сферичні формування металу на поверхні покриття.

У середньотемпературній області поверхня металевих покриттів має сфероїди другого типу з розмірами в 5... 10 разів менше, ніж розмі­ри сфероїдів, які отримані в низькотемпературній області.

У високотемпературній області поверхня металевих покриттів складається з хаотично орієнтованих дуже малих кристалів, розміри котрих в 10... 15 разів менше, ніж розміри сфероїдів другого типу.

Таким чином, підбираючи технологічні параметри процесу, можна отримувати газофазні металеві покриття з потрібним рельєфом поверхні.