Как и плазмотроны с магнитной стабилизацией дуги, плазмотроны с вихревой стабилизацией отличаются разнообразием конструкций и типоразмеров. В данном разделе в качестве примера приведем ти­пичные характеристики плазмотрона, показанного на рис. 2.1.

На рис. 3.31 приведена вольт-амперная характеристика плазмо­трона при р = const, G = const. Видно, что она имеет падающий характер, типичный для плазмотронов с самоустанавливакяцейся длиной дуги.

На рис. 3.32 показана зависимость напряжения на дуге от расхода при / = const, = const. Видно, что в данном случае напряжение

растет несколько медленнее, чем расход.

На рис. 3.33 приведена зависимость напряжения на дуговом раз­ряде от давления при / = const, = const. Она имеет приблизи­тельно такой же вид, как и зависимость U(G) на рис. 3.32. Это естественно, так как в первом приближении при сверхкритическом

режиме истечения и d^ = const имеем G ~ рТ *^2, а Т *^2 сравни­тельно слабо зависит от р.

Рассмотрим теперь поле температур. На выходе из плазмотрона с вихревой стабилизацией дуги (без смесительной камеры) распреде­ление температуры таково, что центральная область струи, испы-

тавшая непосредственное воздействие расположенного на оси ду­гового разряда, имеет более высокую температуру, чем перифе­рийный слой газа. При этом из-за большой плотности газа в пе­риферийном слое, обусловленной закруткой потока, основная часть расхода газа остается сравнительно низкотемпературной. Это об­стоятельство не позволяет получать достаточно высокую среднемас­совую температуру.