Известно, что нитрозосоединения (но не их димеры) ингиби­руют радикальную полимеризацию ненасыщенных соединений (на­пример, [58]). Именно поэтому Небе [пат. Великобритании 1448047, 1480297; пат. США 4029505] предложил вводить нитрозодимеры в фотополимеризующиеся композиции, имеющие обычные области применения. При экспонировании светом с длиной волны до 380 нм в местах фотолиза образуются соединения, препятствующие поли­меризации— создается «фоторезерв». Предполагается, что это мо­номерные нитрозосоединения, хотя это установлено не во всех слу­чаях. Последующее сплошное облучение светом с длиной волны более 380 нм (и поэтому не дающим мономера нитрозосоединения) отверждает композицию на остальных участках. Проявление пози­тивного изображения шаблона достигается использованием рас­творителей, а также тонеров, которые адсорбируются только на незаполимеризованных участках слоя. Рекомендуется большой спи­сок димеров нитрозосоединений, вводимых в композицию в количе­стве до 10%, среди них предпочтительны ароматические произ­водные, поглощающие при 320—380 нм, и в частности, приведен­ные ниже: (C6H5CH=CHNO)2; (л-грег-С4Н9СбН4СН=СН1ЧО)2

Эта область спектра пропускается полиэтилентерефталатной пленкой — обычным материалом для изготовления пленочных ре­зистов. Как основа для создания полимерной части слоя приме­няются различные акрилатные мономеры и олигомеры. Для ини­циирования фотополимеризации применяется большой набор разно­образных веществ, в частности карбонильные соединения, напри­мер 2,7-ди-грег-бутилфенантренхинон.

Поскольку нитрозосоединения образуются при фоторедокс-про - цессе рассматриваемых в этой главе о-нитросоединений ароматиче­ского и гетероароматического рядов, очевидна возможность их ис­пользования в аналогичной разработке. В системе Небе образова­ние мономера нитрозосоединения из димера термически обратимо, поэтому второе экспонирование следует проводить непосредственно после первого; выбирают такие нитрозосоединения, которые мед­леннее димеризуются. Образование же нитрозосоединений при фо­толизе о-нитросоединений необратимо, что дает преимущества пе­ред системой Небе.

Для фотополимеризации ненасыщенных соединений требуется добавка инициатора, например фоторедокс-системы с красителем. Если в такую композицию вводить производные 5-нитро-о-толуило - вой кислоты, то в местах, экспонированных УФ-светом, полимери­зация подавляется, по-видимому, в результате образования нитро­зопроизводных. Видимый свет отверждает остальные участки слоя [пат. США 3556794].

В пат. США 4198242 и европ. пат. 0103197 к ненасыщенным соединениям — акрилатам полиолов, акрилоильным производным полиаминов, виниловым эфирам дикарбоновых и дисульфокислот — добавляют до 0,7 % о-нитропроизводного; предлагается ряд инги­биторов— резервантов, среди них о-нитробензиловый спирт, о-нит - робензальдегид, о-нитростирол и их 4,5-диметоксипроизводные; 2,4- динитробензальдегид, 2-нитрокумол и др. Для повышения раство­римости резервантов в воде заместители в их ароматических ядрах могут содержать карбоксильные или гидроксильные группы. Фо­тоинициаторами полимеризации служат производные кетонов, хи - нонов (фенантренхннон); димеры 2,4,5-триарилимидазола + донор водорода + сенсибилизатор, поглощающий в видимой области спек­тра; эфиры бензоина и др. Вводится инертная полимерная до­бавка, например, ПММА, сополимеры метилметакрилата и акрило­вой кислоты и др. Композицию наносят на подложку с помощью растворителя. Первое экспонирование через шаблон осуществляет­ся светом с длиной волны от 200 до 380 нм, меньшие частоты не мешают экспонированию, возможно использование при этом и покровной терефталатной пленки, поскольку она пропускает доста­точное для фотолиза нитросоединений количество света с длиной волны более 366 нм. Второе сплошное экспонирование следует про­водить светом с длиной волны более 380 нм, т. е. за пределами поглощения светочувствительного нитросоединения. Так получают позитивное изображение шаблона. Если проводить одно экспо­нирование через шаблон светом с длиной волны более 380 нм, то получается негативное изображение шаблона. Проявляют рельеф органическим растворителем, водно-щелочным раствором, если по­лимер в нем растворим, или покрывают тонером, адсорбирующим­ся неполимеризованной частью слоя.