Позитивные фоторезисты можно разделить на две группы, от­личающиеся по механизму образования рельефного позитивного изображения.

Самую большую группу составляют материалы, у которых растворяющийся в щелочах пленкообразующий полимер совме­щается с гидрофобным светочувствительным ингибитором раство­рения; при действии света в результате фотохимических и после­дующих термических реакций ингибитор разрушается или превра­щается в растворяющийся в основаниях гидрофильный продукт (например, карбоновую кислоту), в результате чего в экспониро­ванных участках ингибирование снимается; экспонированные и защищенные от света шаблоном участки оказываются резко раз­личающимися по растворимости в основаниях, что позволяет соз­давать рельеф при проявлении. В качестве пленкообразующего полимера чаще всего применяются новолачные смолы (НС), их растворимость в щелочах в большинстве случаев ингибируют эфи­рами или амидами 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона. По­скольку эти композиции наиболее привлекательны для практики фотолитографии, их получению, свойствам и применению посвя­щено наибольшее число работ. Среди других вводимых в компо­зиции позитивных резитов и растворимых в основаниях полимеров необходимо отметить гидроксиалкилцеллюлозу, сополимеры ак­риловой кислоты, полиамидокислоты (см. гл. VI) и др.

Другая группа позитивных резистов включает материалы, в пленкообразующем полимере которых в результате ряда фотохи­мических, а затем термических стадий или разрушается основной скелет, или за счет превращений заместителей в цепи полимера появляются кислотные функции. В обоих случаях резко повыша­ется растворимость экспонированных участков по сравнению с не­фотолизованными, что и приводит при проявлении к позитивному рельефу.