В настоящем разделе рассматриваются материалы, которые испытаны или внедрены в промышленности в качестве негативных и позитивных электронорезистов. Однако возможность их практи­ческого использования в конкретных технологических процессах обязательно должна быть проверена экспериментально [68, 84].

Первые опыты по экспонированию электронным лучом были проведены с промышленно доступными фоторезистами, используе­мыми в фотолитографии. По мнению исследователей, изучавших возможности применения промышленных фоторезистов в электрон­
ной литографии [85], каждый из опробованных материалов имеет по меньшей мере один существенный недостаток, затрудняющий или делающий невозможным использование этого материала. В боль­шинстве случаев такими недостатками являются низкая чувстви­тельность к электронному излучению, малая контрастность (малая разрешающая способность) и высокая чувствительность к излуче­нию в видимой части спектра, В табл. VII. 2 приведены некоторые данные, характеризующие фоторезисты в процессах электронной литографии.