Некоторые циклические соединения - циклоди-я-ксилилен, ди- хлорди-/?-ксилилен, /1-циклофаны - способны при нагревании воз­гоняться и при высокой температуре в условиях вакуума пироли - тически расщепляться с образованием радикалов, которые, адсор­бируясь на поверхности изделий, полимеризуются с образованием покрытий заданной толщины. Изменяя параметры процесса, можно регулировать скорость полимеризации и влиять на морфологиче­скую структуру покрытий, получать пленки как аморфной, так и кристаллической структуры.

Процесс формирования покрытий из циклоди-я-ксилилена ха­рактеризуется следующими реакциями:

Покрытия получают в установке, состоящей из трех секций: ис­парения, пиролиза и осаждения. Исходный циклоди-и-ксилилен за­гружают в испарительную секцию, где под вакуумом (остаточное давление 5 Па) его нагревают до 100-150 °С. Олигомер испаряется и попадает в секцию пиролиза, где при 650-680 °С разлагается с обра­зованием радикалов и-ксилилена.

Газообразный П-ксилилен далее поступает в секцию осаждения (вакуумную камеру с давлением 0,1 мм рт. ст., температура 20 °С), где адсорбируется на изделии и полимеризуется с образованием про­зрачной или матовой пленки толщиной 5-15 мкм. Средняя ско­рость образования пленок до 5 мкм/ч.

Отличительная особенность поли-и-ксилиленовых пленок - од­нородность по толщине, высокая прочность, низкие влаго - и газо­проницаемость, хорошие электроизоляционные свойства, прозрач­ность для рентгеновских лучей. Они нашли применение при изго­товлении тонкопленочных конденсаторов, для изоляции детекторов излучения, защиты резисторов, термисторов, термоэлементов, изго­товления печатных плат, микросборок, а также защиты архивных документов, печатной продукции и фотоматериалов с целью повы­шения их сохранности.

Установки УНБ1 и УНБ2 (с объемом камеры осаждения 5-25 и 50-200 л соответственно) изготовляет ООО "Базальт", Санкт-Петер­бург.