Светодиоды на основе карбида кремния
Электролюминесценцию в кристаллах карбида кремния впервые наблюдал Раунд [3936]. Лосев [394] в 1923 г. установил связь между электролюминесценцией SiC и выпрямлением. Позднее было показано, что эти кристаллы содержат природные р — /г-переходы [395]. Таким образом, первые светодиоды были изготовлены на основе SiC, хотя их свойства оставались совершенно неконтролируемыми. С тех пор, особенно в последние 15 лет, были приложены значительные усилия для разработки пригодных для промышленности контролируемых способов выращивания SiC и изготовления из него светодиодов. Светодиоды из SiC производятся в США фирмой «Дженерал электрик» [396]. Кристаллы обычно выращиваются из газовой фазы в графитовых тиглях при температуре —2500 °С и имеют /г-тип проводимости благодаря легированию азотом в процессе роста.
В процессе производства [5] р — /г-переходы получались при температуре —2200 °С путем диффузии А1, дающего мелкие акцепторные уровни (Ед « 0,28 эВ) [397]. В качестве активатора добавлялся В, дающий глубокие акцепторные уровни (Ед « « 0,4 эВ) [398]. У этих диодов не наблюдалось эффектов старения в процессе испытания в течение 25 000 ч при 200 °С. Лучшие из них имели внутренний квантовый выход —5-Ю-5 при 300 К в широком спектральном диапазоне с максимумом полосы излучения при 590 нм. Диоды изготовлялись той же фирмой в Англии [289] методом эпитаксиального роста из раствора Si при температуре подложки 1650 °С на затравках, полученных сублимацией по методу Лели [399]. Для получения р — /г-перехода легированные азотом эпитаксиальные слои /г-типа легировались также А1 или В и осаждались на подложки с примесью А1. Люминесценция возникала в п-области и была зеленой или желтой при 300 К в зависимости от того, использовался ли А1 или В как дополнительная примесь. В этих диодах при испытаниях на продолжительность непрерывной работы в течение 25 000 ч при температуре 400 °С и при плотности тока 20 А/см2 не было обнаружено явных признаков старения. Конечно, главные потенциальные преимущества SiC, кроме большой величины Eg (для обычного политипа 6Н при температуре 300 - К Eg на 0,6 эВ больше ширины запрещенной зоны GaP, и, следовательно, эти диоды могут излучать голубой свет), состоят в том, что карбид кремния обладает большой механической и химической стабильностью и высокой удельной теплопроводностью. Эти свойства являются результатом исключительно большого отношения температуры Дебая к Eg, характерного для полупроводников с ковалентной связью и малыми постоянными решетки и молекулярным весом. Высокая температура Дебая обычно соответствует большой энтальпии образования вакансий Д Ну (рис. 3.67).
Брандер и Саттон [289] и Виолин и др. [398] описали ' спектры различных политипов SiC при температуре 300 К - Авторы работы [289] предположили, что желтая полоса, связанная с активацией бором, может быть обусловлена некоторой неизвестной электронной ловушкой с глубиной —'0,5 эВ, если в со-, ответствии с Холуяновым [403] (ЕА) в составляет только 0,4 эВ. Однако в этой оценке они пренебрегли понижением энергии люминесценции из-за большого вклада фононов. В работе [404] сообщалось о тонкой структуре этой широкой полосы в области высоких энергий, которая может быть связана с бесфононными переходами. Фактически же имеется очень мало надежных сведений о механизмах рекомбинации в SiC, относящихся к работе светодиодов при 300 К, учитывая размер капиталовложений в производство опытных приборов в США, Англии и других странах. Зеленая, и желто-оранжевая полосы люминесценции в 6Н SiC при 300 К приписаны рекомбинации на далеких до - норно-акцепторных парах [405], а также рекомбинации свободных электронов с дырками, связанными на акцепторах [406]. Однако ни одна из этих идентификаций не является твердо установленной. Из опыта работы с GaP следует, что при 300 К, возможно, доминируют рекомбинация свободных экситонов (для фиолетового излучения) или переходы свободных электронов на глубокие уровни, на которых связаны дырки (для зеленой или желтой электролюминесценции в промышленных светодиодах на основе 6Н SiC) (разд. 3.2.2), хотя есть также вероятность и не - идентифицированной люминесценции связанных экситонов.
Барнес [406а] показал, что для светодиодов фирмы «Нортон», выращенных методом жидкостной эпитаксии на легированных азотом подложках, характерна туннельная излучательная рекомбинация (разд. 3.3.4) в интервале температур 26— 300 К. Ниже ~200 К излучательные переходы происходят главным образом между некоторой электронной ловушкой, энергетический уровень которой Et лежит на — 0,6 эВ ниже зоны проводимости, и примесной зоной, образованной акцепторными уровнями бора. В этом случае энергия hv смещающегося пика составляет ~eVe — Et. Однако при температуре —300 К становится гораздо более важным обычный механизм, включающий излучательные туннельные переходы с уровней вблизи Ес (рис. 3.38).
За исключением некоторых переходов, близких к межзон - ным, в карбиде кремния, легированном N [407] и N, А1 [408], недостаточно понята даже низкотемпературная люминесценция. Однако в свете недавних результатов магнитооптических исследований 6Н SiC [409, 410] и сравнения электрических и оптических свойств политипов SiC 6Н и 15 R [411, 4116] некоторые из выводов этой работы требуют пересмотра. В настоящее время известно, что эта люминесценция обусловлена рекомбинацией экситона на изоэлектронных ловушках Tisi [410а, 4106]. Данные исследования опровергают более раннее объяснение люминесцентных полос, содержащих резкую структуру и обнаруженных в некоторых политипах SiC [407], рекомбинацией экситонов на ионизованных донорах азота. Оказалось, что в этом отношении в карбиде кремния нет отклонений от простых теоретических предсказаний для случая этого специфического механизма [28], по которому рекомбинация сильно связанных экси - тонных состояний весьма эффективна [409].
Широкая сине-зеленая низкотемпературная фотолюминесценция в 6Н SiC со слабой структурой и соответствующая фиолетово-голубая полоса в 4Н SiC были в значительной степени лучше поняты в работе Хагена и др. [411а]. В ней подтверждены ранние предположения о том, что эти полосы являются результатом рекомбинационных переходов на относительно мелких донорно-акцепторных парах. Резкие линии, обусловленные переходами в дискретных парах, образованных донорами азота и акцепторами алюминия (рис. 3.8), можно видеть в части спектра люминесценции в области высоких энергий, так же как и в кубическом SiC [408]. Хаген и др. [411а] показали, что некоторые детали спектра, возможно, обусловлены двумя донор - ными уровнями азота с энергиями —0,10 и 0,15 эВ, причем акцепторные уровни А1 могут быть также совсем мелкими ( — 0,18 эВ). Маловероятно, что эти медленно затухающие полосы люминесценции, довольно близкие по энергии к межзон - ным (для бесфононных компонент), дают существенный вклад в люминесценцию светодиода при 300 К. Из интерпретации спектров донорно-акцепторных пар [408] и спектров рекомбинации свободных электронов и связанных дырок в кубическом ЗС SiC получены (ED)n = 53 мэВ, (ЕА)А1 = 257 мэВ, (ЕА)в ~ fa 705 мэВ [410а]. Данные по положению энергетических уровней N и А1 сильно отличаются от результатов, опубликованных в работе [408]. В работе [410в] получено подтверждение малости величины (Ed) n из положений «двухэлектронных» спутников (разд. 3.2.3) в спектрах люминесценции экситонов, связанных на донорах азота.
Недостаток знаний о механизмах люминесценции при комнатной температуре может быть частично ответственным за резкое свертывание большинства программ по производству светодиодов из SiC1). Этому способствовали также неудачные попытки быстро получить увеличение г) выше 10-4 при 300 К. Нежелательное насыщение электролюминесценции происходит при неприемлемо малых плотностях тока, например при Jt ^>,
0,1 А/см2 [5]. Внутренний квантовый выход при низкой плотности тока может достигать 0,1 — 1% в зависимости от температуры диффузии, использованной для получения перехода. Но обычно он не выше (2—4) -10-4% при плотностях тока ~5 А/см2. Поттер [290] показал, что сублинейная зависимость интенсивности электролюминесценции в этом диапазоне токов происходит из-за насыщения люминесценции SiC в узкой области п-типа вблизи перехода, внутри которой и идет основная рекомбинация (рис. 3.68). Чтобы обойти эту трудность, требуются большие концентрации активатора, так как для этих светодиодов диффузионная длина инжектированных дырок очень мала. Это ограничение и трудности экономичного изготовления подложек из SiC являются дополнительными причинами потери интереса к светодиодам на основе SiC в настоящее время. Эффективность инжекции дырок не зависит существенно от плотности тока, по крайней мере до 5 А/см2, но быстро возрастает с температурой в интервале 300 — 400 К, очевидно, из-за увеличения степени ионизации акцепторных уровней бора с энергией 0,4 эВ. По оценкам внутренний квантовый выход катодо - люминесценции падает от ~40% при низкой плотности тока до — 2 % при плотности тока пучка электронов, эквивалентной плотности тока 5 А/см2 в светодиодах. Имеется сообщение [412] об очень высоком значении т] « 3-Ю-3 на длине волны 520 нм (300 К), полученном сотрудниками Электротехнического института в Ленинграде. Однако, по-видимому, эти значения характерны только для низких плотностей тока, неинтересных с точки зрения создания систем отображения информации на светодиодах.
Было бы полезно ввести в SiC в качестве активаторов относительно мелкие изоэлектронные ловушки, так как карбид кремния, подобно GaP, является непрямозонным полупроводником. К сожалению, разность энергий Гс — Хс в SiC велика (~2 эВ)
*) Например, фирма «Дженерал электрик», прекратив изготовление светодиодов на SiC, перешла к светодиодам из GaP : Zn, О и GaP : N, а совсем недавно полностью отказалась от производства светодиодов.
100 |
Электронное Возбуждение Ю кзВ |
|
J/' уг Диод |
||
I' |
/ |
|
10'’ |
і і і і |
|
Диод ГО'3 Ю'г 10'1 1 Электронное to'7 10'S t0's Ю'4 |
•А/смг |
Возбуждение Рис. 3.68. Зависимость яркости типичного светодиода SiC: N, В, А1, выпускавшегося фирмой «Дженерал электрик», от плотности тока в р — ^-переходе (при 300 К) и увеличение яркости n-области, возбуждаемой электронным пучком с энергией 10 - кэВ, плотность которого соответствует уровню возбуждения в диоде [290]. Из совпадения двух кривых, имеющих явное насыщение при умеренном изменении уровня возбуждения, следует, что плохие характеристики этих светодиодов обусловлены главным образом насыщением активаторов люминесценции, а не недостаточной иижекцией неосновных носителей в диффузионный р—«-переход. |
[413], так что благоприятное влияние зонной структуры на рассеяние электронов нейтральными примесями, найденное в GaP {разд. 3.2.1, 3.2.6, рис. 3.2), в SiC отсутствует. Кроме того, если для обычных легирующих примесей А1, В, Be в N й + <
^ 0,5 эВ [397], то нет надежды получить, используя эти примеси, аналог изоэлектронной ловушки Zn — О в GaP (рис. 3.20) из-за недостаточной энергии связи [уравнение (3.12)]. Единственным обнаруженным до сих пор в SiC изозлектронным центром рекомбинации является Tisi [410а, 4106]. В настоящее время нет сведений о том, что этот центр может заметно увеличивать выход люминесценции при 300 К-
Ясно, что требуется гораздо более тщательное изучение свойств SiC, обусловленных примесями, прежде чем можно будет сделать окончательные оценки технических возможностей светодиодов на основе SiC. Между тем экстремальные температуры и довольно медленные скорости роста даже для эпитаксиального выращивания кристаллов, а также тенденция к неконтролируемому росту политипов оказываются существенными недостатками для производства светодиодов на основе SiC с экономической точки зрения. В этой связи вызывает интерес сообщение о получении р — n-переходов методом ионной имплантации N или Sb [414], поскольку максимальные температуры в процессе изготовления (~ 1500 °С) поддерживаются только е течение нескольких минут (в течение отжига): это мало по сравнению с многими часами, необходимыми при обычных методах выращивания. Об ионной имплантации SiC в литературе имеется мало сведений в значительной степени из-за свертывания усилий по оптоэлектронным приборам на основе SiC в тот период, когда как раз разрабатывались методы ионного легирования. Работы Военно-морской исследовательской лаборатории США свидетельствуют о том, что таким путем трудно получить достаточный уровень легирования азотом и бором из-за обратной диффузии в процессе следующего за облучением отжига при 550 °С [415]. Алюминий, хорошо диффундирующий в поврежденный слой, кажется более перспективным. Особый интерес к диодам на основе SiC вызван, помимо хорошо известной пригодности для работы при высоких температурах, их высокой стойкостью к радиационным повреждениям.